2016年度 半導体加工プロセス   Semiconductor Fabrication Process

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開講元
電気電子系
担当教員名
宮本 恭幸 
授業形態
講義     
メディア利用科目
曜日・時限(講義室)
火5-6(S222)  
クラス
-
科目コード
EEE.D391
単位数
1
開講年度
2016年度
開講クォーター
4Q
シラバス更新日
2016年4月27日
講義資料更新日
2016年2月16日
使用言語
日本語
アクセスランキング

講義

第1回 半導体加工プロセスに要求される条件と光露光の基礎

2016年12月06日(火) 5-6時限開講

講義

第2回 光露光の現状(レジストを含む露光技術)

2016年12月13日(火) 5-6時限開講

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第3回 電子ビーム露光(レジストを含む露光技術)

2016年12月20日(火) 5-6時限開講

講義

第4回 NGLと不純物層形成

2017年01月10日(火) 5-6時限開講

講義

第5回 酸化膜形成とエッチング

2017年01月17日(火) 5-6時限開講

講義

第6回 成膜

2017年01月24日(火) 5-6時限開講

講義

第7回 電極と配線

2017年01月31日(火) 5-6時限開講

期末試験

第8回 試験

2017年02月07日(火) 5-6時限開講

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