2020年度 実践SEM観察技術概論 1   Practical SEM observation techniques 1

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開講元
材料コース
担当教員名
村石 信二  中村 吉男 
授業形態
演習     
メディア利用科目
曜日・時限(講義室)
火1-2  
クラス
1
科目コード
MAT.M422
単位数
1
開講年度
2020年度
開講クォーター
1Q
シラバス更新日
2020年3月24日
講義資料更新日
-
使用言語
日本語
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講義の概要とねらい

材料評価の手法として広く用いられるSEM(走査電子顕微鏡)を操作することで,SEM像の各種観察法と基本原理を演習形式で学ぶ。

到達目標

SEMの実機を操作しながら,代表的な観察法と分析法を習得することを目標とする.

キーワード

走査型電子顕微鏡,SEM,2次電子像,反射電子像,波長分散型X線分光分析,エネルギー分散型X線分析

学生が身につける力(ディグリー・ポリシー)

専門力 教養力 コミュニケーション力 展開力(探究力又は設定力) 展開力(実践力又は解決力)

授業の進め方

インストラクターの指示に従う.各回テーマの内容に沿ってSEM観察や分析評価を行う.
(インストラクター:大岡山分析部門 多田大)

授業計画・課題

  授業計画 課題
第1回 SEMの基本原理と操作法 走査電子顕微鏡の基本構造の解説 基本項目の確認(倍率、焦点、非点、明るさ、コントラスト等) SEMの基本原理、操作法, 観察試料について理解する
第2回 試料形状と二次電子情報  材料への電子線照射と発生信号,試料傾斜とコントラスト,試料形状と二次電子情報,検出器とSEM像の位置関係,試料のチャージアップと導電処理 材料や試料形状が二次電子像に与える影響を理解する
第3回 SEM像と加速電圧・照射電流 WDと焦点深度,二次電子像と加速電圧および照射電流量の関係 電子線照射による試料損傷 加速電圧・照射電流が二次電子像に与える影響を理解する。
第4回 反射電子像観察 二次電子像と反射電子像(組成像)の違い, 試料傾斜による組成像 チャネリングコントラスト 凹凸像 反射電子像と二次電子像の違いを理解する
第5回 WDS分析 (1) 特性X線と分光法(EDS、WDS)の原理   反射電子像とWDS分析   試料高さとWDSスペクトル   定量分析 元素分析のエネルギー分光法、波長分光法を理解する
第6回 EDS分析(1)   EDSスペクトル   ピークの同定   スポット分析    EDSとWDSのS/N比 EDS の分析ピークを理解する
第7回 EDS分析 (2)   凹凸試料のEDSマッピング EDSマッピングと試料表面の影響を理解する

教科書

例えば,「新 走査型電子顕微鏡」(日本顕微鏡学会関東支部編)

参考書、講義資料等

当日配布

成績評価の基準及び方法

テスト・補講期間に総合討論会を行う
インストラクターから指示された課題による評価(100%)

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履修の条件(知識・技能・履修済科目等)

材料科学に関連した基礎的知識
少人数制のため,事前に履修学生を募集を行います.各Qでの募集案内は南8掲示板に掲示.

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