2019年度 セラミックス薄膜工学特論   Advanced Course of Ceramic Thin Film Technology

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開講元
材料コース
担当教員名
片瀬 貴義  東 康男  舟窪 浩 
授業形態
講義
曜日・時限(講義室)
火1-2(S7-202, G511)  金1-2(S7-202, G511)  
クラス
-
科目コード
MAT.C403
単位数
2
開講年度
2019年度
開講クォーター
1Q
シラバス更新日
2019年3月18日
講義資料更新日
-
使用言語
日本語
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講義の概要とねらい

機能性セラミックスの薄膜成長・微細加工技術は、スマートフォン・タブレット端末といった高機能電子機器や発電・蓄電素子・LED照明のような環境デバイス等の実現に繋がっており、社会を支える重要な技術である。本講義では、多様なセラミックス薄膜の成長プロセス、微細加工技術、及び、物性評価法について学ぶ。前半では、セラミックス薄膜成長の基礎と各種薄膜成長法を中心に、後半では、身近なデバイスと関連させて、薄膜の微細加工技術と評価法を中心に学ぶ。

到達目標

本講義を履修することによって、薄膜成長プロセスから物性評価法とデバイス作製技術までの基礎科学を習得すると共に、世の中でどのように利用されて役に立っているかを理解することを到達目標とする。

キーワード

酸化物薄膜、薄膜成長、物理蒸着法、化学気相成長法、微細加工、走査型プローブ顕微鏡、構造分析、化学組成分析、表面分析、電子状態分析、電気特性、光学・誘電特性、熱電特性、磁気特性、超伝導特性

学生が身につける力

国際的教養力 コミュニケーション力 専門力 課題設定力 実践力または解決力
- -

授業の進め方

毎回の授業で練習問題を課す。

授業計画・課題

  授業計画 課題
第1回 薄膜工学概論 薄膜成長技術・微細加工技術・物性評価法の必要性について学ぶ
第2回 薄膜成長の基礎 酸化物薄膜の形態と結晶成長様式について学ぶ
第3回 エピタキシャル成長・ヘテロ接合・超格子 単結晶基板上へのエピタキシャル薄膜成長法と接合・超格子の作製法について学ぶ
第4回 物理蒸着法 真空蒸着法と分子線エピタキシー法について学ぶ
第5回 物理蒸着法(II) スパッタリング法とレーザーアブレーション法について学ぶ
第6回 化学気相成長法 化学気相成長法について学ぶ
第7回 気相法以外の薄膜成長法 固相エピタキシー・液相エピタキシー法・溶液法について学ぶ
第8回 薄膜微細加工技術 リソグラフィによるパターニングとエッチング法による微細加工技術について学ぶ
第9回 構造分析 X線回折や電子顕微鏡を用いた薄膜の結晶構造評価法について学ぶ
第10回 化学組成・電子状態分析 薄膜の化学組成と電子状態分析法について学ぶ
第11回 表面分析 走査型プローブ顕微鏡を用いた表面分析法について学ぶ
第12回 電気伝導特性評価法 電気伝導性薄膜の評価方法について学ぶ
第13回 光学・誘電特性評価法 薄膜の光学・誘電特性評価法について学ぶ
第14回 超伝導・磁性・熱電特性評価法 超伝導・磁性・熱電薄膜の評価方法について学ぶ
第15回 復習 薄膜成長プロセスと微細加工技術、及び分析・評価法について復習する

教科書

指定なし

参考書、講義資料等

授業で扱う全ての資料は、事前にOCW-iにアップする。
参考書:吉田貞史 (著) 薄膜工学 第3版 (丸善出版)、麻蒔立男 (著) 薄膜作成の基礎 第4版 (日刊工業新聞社)

成績評価の基準及び方法

毎度授業中に練習問題(50%)を課すと共に、本講義の最後にレポート課題(50%)を課し、セラミックス薄膜成長プロセス・物性評価法・微細加工技術の基礎科学に関する理解度を評価する

関連する科目

  • 該当無し

履修の条件(知識・技能・履修済科目等)

履修の条件を設けない

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