2016年度 セラミックス薄膜特論   Advanced Course of Ceramic Thin Film Technology

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開講元
材料コース
担当教員名
篠崎 和夫  脇谷 尚樹  坂元 尚紀 
授業形態
講義
曜日・時限(講義室)
月3-4(S7-201)  木3-4(S7-201)  
クラス
-
科目コード
MAT.C403
単位数
2
開講年度
2016年度
開講クォーター
2Q
シラバス更新日
2016年12月14日
講義資料更新日
2016年8月1日
使用言語
日本語
アクセスランキング

講義

第1回 序論・薄膜成長技術概論 (I):薄膜の定義、薄膜に関する学問の発展過程、薄膜の種類

平成28年06月13日(月) 3-4時限開講

講義

第2回 薄膜成長技術概論 (II):薄膜作成技術概要、PVD、CVD、液相法(CSD)、固相法、実験装置見学

平成28年06月16日(木) 3-4時限開講

講義

第3回 セラミックス薄膜成長の基礎 (I):気相中での物質輸送、原料の分解

平成28年06月20日(月) 3-4時限開講

講義

第4回 セラミックス薄膜成長の基礎 (II):原料の反応、分子の吸着、原子・分子の表面過程

平成28年06月23日(木) 3-4時限開講

講義

第5回 セラミックス薄膜成長の基礎 (III):基板表面再構成、物理/化学吸着、表面反応

平成28年06月27日(月) 3-4時限開講

講義

第6回 セラミックス薄膜成長の基礎 (IV):薄膜構造、結晶構造、成長条件と結晶状態、エピ タキシャル成長

平成28年06月30日(木) 3-4時限開講

講義

第7回 PVD法によるセラミックス薄膜作成と応用

平成28年07月04日(月) 3-4時限開講

講義

第8回 CVD法によるセラミックス薄膜作成と応用

平成28年07月07日(木) 3-4時限開講

講義

第9回 薄膜の応用:薄膜の工学用途への応用

平成28年07月11日(月) 3-4時限開講

講義

第10回 キャラクタリゼーション技術 (I): X線回折法の基礎と薄膜構造評価への応用

平成28年07月14日(木) 3-4時限開講

講義

第11回 キャラクタリゼーション技術 (III): 分子振動と格子振動の計算

平成28年07月18日(月) 3-4時限開講

講義

第12回 回 キャラクタリゼーション技術 (II): 透過型電子顕微鏡による薄膜構造評価と化学分析

平成28年07月21日(木) 3-4時限開講

講義

第13回 キャラクタリゼーション技術 (IV): 薄膜における格子振動の測定

平成28年07月25日(月) 3-4時限開講

講義

第14回 キャラクタリゼーション技術 (V):走査型プローブ顕微鏡の基礎と薄膜への応用

平成28年07月28日(木) 3-4時限開講

講義

第15回 キャラクタリゼーション技術 (VI):薄膜の電気特性とその測定法

平成28年08月01日(月) 3-4時限開講

期末試験

第16回 期末試験

平成28年08月04日(木) 3-4時限開講

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