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マイクロマシン，MEMS/NEMSなどの製作に用いられる加工プロセス，装置などについて講義する。

電子デバイス製作に用いられる各種加工装置・測定装置等について学習し，装置を使用するための基礎知識を習得することを目的とする．

１．マイクロマシン，MEMS/NEMSの概要
２．半導体加工プロセス（プロセスの流れ，露光装置）
３．半導体加工プロセス（成膜加工法，関連加工装置）
４．測定及び評価法（各種顕微鏡，測定機）
５．ナノテク加工法

初めてのMEMS，江刺正喜著，森北出版，2011など

レポートによる

半導体プロセス関連の講義を受講したことのない学生諸君(主に機械系)を対象としていますが，デバイス系の学生諸君も受講可能です．実験室で実際に装置を動作させ，その様子を見学します．

講義資料は研究室HPからダウンロードできます．http;//www.pme.pi.titech.ac.jp/