化学プロセッシング特論第二   Advanced Lecture on Chemical Processing II

文字サイズ 

担当教員
大川原 真一 
使用教室
集中講義等   
単位数
講義:1  演習:0  実験:0
講義コード
35042
シラバス更新日
2013年3月26日
講義資料更新日
2013年4月1日
アクセス指標
学期
後期

講義概要

対流に伴う熱および物質の移動現象を主な対象とする計算機演習を通し,CFD(Computational Fluid Dynamics)の基礎,効用,適用法,限界等に関する知識を習得する.
1.CFD概論と有限体積法の基礎
2.ニュートン流体の管内流れ
3.非ニュートン流体の管内流れ
4.境界層における熱移動
5.境界層における物質移動
6.化学反応を含む流れ
7.Topics

講義の目的

 化学工学分野に関連する様々なプロセス技術の中から,特に重要な役割を示しつつある先端技術トピックスについて,社会背景,基礎技術から最近の技術動向および研究動向について講義する.
 単なる生産性の向上や新しい機能付与だけでなく,社会的要請の強い環境問題の解決や安全・安心に資するプロセス技術の現状を把握し,化学工学を基礎とした解決手法を導入する.
 第2では,CFDをそのトピックに据え,上記の内容に係る基礎的なシミュレーションを実際に行うとともに,各受講者の研究テーマに対する適用まで展開する.

講義計画

集中講義により行う

教科書・参考書等

教員作成資料
Transport Phenomena Second Edition
 R. Byron Bird, Warren E. Stewart, Edwin N. Lightfoot
 John Wiley & Sons, Inc.

関連科目・履修の条件等

なし

成績評価

レポートにより行う

このページのトップへ