セラミックプロセッシング特論   Advanced Course of Ceramic Processing

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担当教員
篠崎 和夫  櫻井 修  脇谷 尚樹  木口 賢紀 
使用教室
金7-8(S7-201)  
単位数
講義:2  演習:0  実験:0
講義コード
24021
シラバス更新日
2011年3月23日
講義資料更新日
2011年4月15日
アクセス指標
学期
前期

講義概要

セラミックスの研究分野の中でも比較的新しく,特にエレクトロセラミックスの分野で重要な役割を 果たしつつあるセラミックス薄膜の合成とキャラクタリゼーションに注目し,セラミックス薄膜の製膜 と界面の形成,および物性測定との関連について基礎的知識と最近の成果について述べる。

講義の目的

セラミックスの多様な性質の多くは、粒界・界面といった微構造に由来しており、セラミックスの微構造を制御するセラミックスプロセッシングはますます重要になっている。セラミック薄膜は界面の影響が最も大きな材料と考えることができる。本講義の前半では、セラミックス薄膜成長の基礎、各薄膜合成法に関する講義を中心に、後半では、薄膜のキャラクタリゼーション技術および電気特性の測定について述べる。キャラクタリゼーション技術では、群論から始まる光学測定技術の紹介と、回折の基礎から学ぶX線回折、透過電子顕微鏡測定技術を紹介する。

講義計画

01. 序論・薄膜成長技術概論 (I)
02. 薄膜成長技術概論 (II)、実験装置見学
03. セラミックス薄膜成長の基礎 (I)
04. セラミックス薄膜成長の基礎 (II)
05. セラミックス薄膜成長の基礎 (III)
06. セラミックス薄膜成長の基礎 (IV)
07. CVD法によるセラミックス薄膜作成
08. PVD法によるセラミックス薄膜作成
09. 薄膜研究の最前線
10. キャラクタリゼーション技術 (I):点群と群の表現
11. キャラクタリゼーション技術 (II):分子振動と格子振動(ラマン活性と赤外活性)
12. キャラクタリゼーション技術 (III):X線回折法の基礎と薄膜構造評価への応用
13. キャラクタリゼーション技術 (IV):透過型電子顕微鏡による薄膜構造評価と化学分析
14. キャラクタリゼーション技術 (V):電気特性測定法

教科書・参考書等

教科書は特に指定しない。

参考書は授業中に紹介する。

関連科目・履修の条件等

物理化学と固体物性の基礎を学んでいることが望ましいが、薄膜の入門講義としても役立つように心がけている。

成績評価

期末試験の成績を中心に評価する,出席点,レポート点等も参考にする。

担当教員の一言

最近の電子セラミックスでは界面現象の理解が重要となっている.セラミックスの利用形態にはバルク型と薄膜型とがあるが,薄膜では容積が非常に小さく,セラミックス部のほとんどが電極などとの界面を形成している.本講義では今後ますます重要となるセラミックス薄膜の科学と工学について学ぶ。

その他

オフィスアワー:講義終了時に相談,またはメールで予約のこと。

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