セラミックスプロセッシング特論 Advanced Course of Ceramic Processing

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担当教員: 田中順三篠﨑和夫

使用教室: 木3-4(S7-202)

単位数: 講義：2 演習：0 実験：0

講義コード: 24021

シラバス更新日: 2008年4月1日

講義資料更新日: 2008年4月1日

学期: 前期

概要

講義概要

セラミックス薄膜の形成や合成法の基礎的知識とそれによって発現する性質の測定について基本的な考え方を示し，最近の研究成果について述べる。

(1) セラミック薄膜の特徴　(2) 薄膜成長の基礎　(3) PVD法による薄膜作成

(4) CVD法による薄膜作成　(5) 薄膜のキャラクタリゼーション