- 使用教室
- 金5-6(I311)
- 単位数
- 講義：2 演習：0 実験：0
- 講義コード
- 6736
- シラバス更新日
- 2009年9月28日
- 講義資料更新日
- 2009年9月28日
- 学期
- 後期 / 推奨学期：6
講義概要
I 本講義ではプロセス制御の代表的な制御対象である温度，レベル，流量，圧力，成分などの重要な諸量の計測制御について解説する。
II 1. 概説 2. プロセス制御用計算機システム 3. 工業用調節弁 4. プロセスにおける制御器
5. プロセス生産管理システム 6. 製油精製におけるプロセス制御
講義の目的
本講義ではプロセス制御の代表的制御対象である温度，レベル，流量，圧力，成分などの重要な諸量の計測制御について解説する.特に，最新の計算機システムによる分散制御についても述べる.プロセスの例と特徴は他の制御系との相違点を示す.これらの要素で構成される制御システムの調整法や実際のプロセス制御の例を示す.
講義計画
1.概説 香川利春(東京工業大学)
2.プロセス制御用計算機システム 曾禰寛純(山武ハネウエル)
3.工業用調節弁 尾野恵一郎(YKV)
4.プロセスにおける制御器 高津春雄(横河電機)
5.プロセス生産管理システム 廣瀬寿二(菱化システム)
(アルミ精錬プロセスと計算機制御)
6.石油精製におけるプロセス制御 薄 豊文(JOMO)
教科書・参考書等
プリント配布
関連科目・履修の条件等
特にないが，制御に関する知識が必要.
成績評価
レポートによる.
担当教員の一言
重要かつ最新のプロセス制御に関する事項を分りやすく講義するので積極的な受講態度を望む.
